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Update雙年展(Update biennial)旨在拓展當代藝術創作,以當代的、新科技的創作方法賦予傳統媒體新面貌,舉凡:聲音、光影、新媒體、通訊軟體、廣播、視訊、資訊、電腦、互動科技等等。Update biennial希望透過這些新科技的運用與創作,尋找當代藝術的新面貌,同時也希望能藉此激發更為多元的詮釋方式。基於此宗旨與目標因而創生了新科技藝術獎(NTAA),即日起向全球藝術家徵求藝術創作。2016 Update雙年展將於2016年11月5日至12月4日於比利時展開,期間也將頒發並展出新科技藝術獎獎項。

新科技藝術獎 相關申請規定:
1. 本獎項僅限定於新科技藝術創作,亦即創作者必須使用新科技、新媒體素材進行創作,但作品必須具備美學與藝術表現。
2. 申請作品可以是展覽過之作品,但必須是兩年內創作完成之作品,入選作品也將於展覽期間展出。主辦單位會提供基本裝備,但特殊裝備、裝置則必須由藝術家自行準備。
3. 評審團將評選出二十個作品,每位藝術家僅能申請一件作品,評選結果將於2016年6月公佈於網站。網址為:http://www.ntaa.be/en/
4. 新科技藝術獎誠摯邀請全球各地藝術家、不限年齡、不限國籍、創作哲學、經濟條件皆不拘,但作品語言以英語為主。
5. 截止日期為2016年3月31日。
6. 得獎作品將頒與獎項與獎金,評審團將評選出一名傑出藝術家獎項。
7. 相關資訊與聯絡資訊為:
Entry period: November 1st, 2015 – March 31st, 2016
Exhibition: November 5th – December 4th, 2016
Zebrastraat
Zebrastraat 32/001
9000 Ghent
Belgium

 
 

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